AL10270 Wafer di zaffiro Al2O3 Piano A (11-20) 10x5x0,5 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 piano A (11-20) 10x5x0,5 mm Descrizione

Il wafer di zaffiro, composto da ossido di alluminio (Al2O3) di elevata purezza, presenta un taglio A-plane (11-20) con dimensioni di 10 mm per 5 mm per 0,5 mm. Il suo specifico orientamento cristallografico è stato progettato per ridurre la densità delle dislocazioni e supportare la deposizione uniforme dello strato epitassiale. La composizione controllata e la finitura superficiale meticolosa consentono un'integrazione accurata nei flussi di processo dei semiconduttori e negli esperimenti optoelettronici, garantendo la coerenza delle prestazioni in ambito di ricerca e produzione.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano A (11-20) 10x5x0,5 mm Applicazioni

Elettronica e lavorazione dei semiconduttori
- Utilizzo come substrato nella produzione di semiconduttori per ottenere una crescita epitassiale uniforme sfruttando la bassa densità di dislocazioni del wafer.

Sistemi optoelettronici
- Applicato come piattaforma di montaggio in gruppi di laser e sensori per migliorare la stabilità ottica sfruttando l'orientamento controllato dei cristalli.

Ricerca scientifica
- Utilizzato come materiale di riferimento negli studi cristallografici per ottenere risultati di misura precisi, sfruttando le sue dimensioni riproducibili e la sua purezza chimica.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano A (11-20) 10x5x0,5 mm Confezione

Il wafer di zaffiro è fissato in una busta antistatica a basso contenuto di pelucchi e ulteriormente protetto da un contenitore rigido rivestito di schiuma per evitare danni meccanici e contaminazione da particelle. Il design dell'imballaggio riduce al minimo l'esposizione all'umidità e ai contaminanti ambientali durante lo stoccaggio e il trasporto. Si raccomanda di conservare il wafer in un ambiente a temperatura controllata e a bassa umidità. Su richiesta, sono disponibili altre soluzioni di imballaggio personalizzate con imbottitura e compartimentazione avanzate.

Domande frequenti

Q1: Quali tecniche vengono utilizzate per verificare l'uniformità della superficie del wafer?
A1: L'uniformità della superficie viene valutata utilizzando l'interferometria e la microscopia elettronica a scansione, che forniscono informazioni dettagliate sulla morfologia della superficie e sulla distribuzione dei difetti, fondamentali per la deposizione epitassiale.

D2: Come viene mantenuto l'orientamento del piano A (11-20) durante la fabbricazione?
A2: L'orientamento è controllato attraverso precise procedure di taglio e allineamento verificate dall'analisi di diffrazione dei raggi X, che assicurano un piano cristallografico coerente adatto a prestazioni elevate.

D3: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate per salvaguardare l'integrità del wafer?
A3: Il wafer deve essere conservato in un ambiente a temperatura controllata e a bassa umidità, con un'adeguata protezione antistatica per attenuare la contaminazione e prevenire qualsiasi degradazione fisica o chimica.

Informazioni aggiuntive

Lo zaffiro, o ossido di alluminio (Al2O3), è noto per la sua eccellente stabilità termica e inerzia chimica. Queste proprietà lo rendono un materiale fondamentale per i substrati utilizzati nelle applicazioni di semiconduttori e optoelettroniche. La sua struttura cristallina consente un mismatch reticolare minimo durante la crescita epitassiale, essenziale per lo sviluppo di dispositivi ad alte prestazioni.

I progressi nella lavorazione del materiale hanno portato a un migliore controllo dell'orientamento cristallografico e della finitura superficiale. La comprensione di queste proprietà fornisce preziose indicazioni sul comportamento del substrato in diverse condizioni di lavorazione, migliorando così le prestazioni complessive del dispositivo e la sua affidabilità in applicazioni industriali complesse.