AL10265 Wafer di zaffiro Al2O3 (11-02) 10x5x0,5 mm

Sapphire Wafer Al2O3 (11-02) 10x5x0,5 mm Descrizione

Sapphire Wafer Al2O3 (11-02) 10x5x0,5 mm è un substrato di allumina monocristallina con dimensioni di 10 mm per 5 mm per 0,5 mm e un orientamento cristallografico definito (11-02). La sua bassa densità di difetti e la composizione chimica controllata riducono al minimo i livelli di impurità. Questi attributi favoriscono la deposizione uniforme del film e migliorano la costanza delle prestazioni nella fabbricazione di semiconduttori e nell'assemblaggio di dispositivi ottici.

Wafer di zaffiro Al2O3 (11-02) 10x5x0,5 mm Applicazioni

Applicazioni elettroniche
- Utilizzato come substrato isolante nei circuiti integrati per ridurre le perdite dielettriche sfruttando l'orientamento controllato dei cristalli e la stabilità termica, favorendo così il miglioramento delle prestazioni dei circuiti.

Sistemi ottici
- Applicato come finestra trasparente nei gruppi di sensori ottici per limitare la dispersione della luce sfruttando la sua finitura superficiale uniforme, che contribuisce a migliorare la chiarezza dell'immagine durante il funzionamento.

Wafer di zaffiro Al2O3 (11-02) 10x5x0,5 mm Imballaggio

Il wafer è confezionato in un supporto di schiuma antigraffio e statico e sigillato in un sacchetto antistatico per evitare la contaminazione. È conservato in un ambiente controllato con temperatura stabile e bassa umidità. Sono disponibili ulteriori opzioni per l'etichettatura personalizzata e per la modifica dei contenitori, in modo da soddisfare i protocolli di manipolazione specifici del laboratorio.

Domande frequenti

Q1: In che modo l'orientamento (11-02) influisce sull'integrazione dei materiali nella fabbricazione dei dispositivi?
A1: L'orientamento (11-02) fornisce un allineamento atomico uniforme che favorisce la deposizione coerente del film nei processi dei semiconduttori, riducendo le variazioni durante l'integrazione del dispositivo.

D2: Quali metodi analitici sono consigliati per valutare la qualità della superficie dei wafer?
A2: La microscopia elettronica a scansione e la microscopia a forza atomica sono comunemente utilizzate per valutare i difetti e la rugosità della superficie. Questi metodi aiutano a verificare che il wafer rispetti le rigorose tolleranze di fabbricazione.

D3: È possibile modificare le dimensioni del wafer senza alterarne l'integrità cristallografica?
A3: È possibile offrire dimensioni personalizzate mantenendo le proprietà cristallografiche del substrato. Il coordinamento con l'assistenza tecnica può garantire che qualsiasi modifica sia conforme agli standard di lavorazione stabiliti.

Informazioni aggiuntive

I substrati di allumina (Al2O3) sono ampiamente utilizzati sia nella lavorazione elettronica ad alta temperatura che nelle applicazioni ottiche. L'inerzia chimica del materiale e la sua stabilità in condizioni termiche diverse ne determinano l'uso in ambienti in cui la costanza delle prestazioni è fondamentale.

La comprensione della relazione tra orientamento cristallografico e composizione chimica svolge un ruolo fondamentale nell'ottimizzazione delle prestazioni del substrato. Analisi dettagliate e protocolli standard di controllo della qualità contribuiscono ai progressi nella produzione di semiconduttori e nell'ottica di precisione, rafforzando l'affidabilità complessiva dei dispositivi fabbricati.