AL10264 Wafer di zaffiro Al2O3 M piano 10x10x1,0 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 piano M 10x10x1,0 mm Descrizione

Il wafer di zaffiro Al2O3 piano M 10x10x1,0 mm è realizzato in ossido di alluminio (Al2O3) di elevata purezza con orientamento piano M, ottimizzato per applicazioni che richiedono proprietà cristallografiche precise. Le dimensioni del wafer garantiscono la compatibilità con le apparecchiature di lavorazione standard, mentre lo spessore e la planarità controllati contribuiscono a migliorare le prestazioni negli ambienti ottici e dei semiconduttori. La sua durezza intrinseca e l'inerzia chimica servono anche come base stabile per la successiva crescita epitassiale, riducendo al minimo la propagazione dei difetti.

Wafer di zaffiro Al2O3 M piano 10x10x1,0 mm Applicazioni

Elettronica
- Utilizzato come substrato nei dispositivi LED per ottenere un'emissione luminosa uniforme sfruttando l'orientamento cristallografico costante del wafer.

Lavorazione dei semiconduttori
- Utilizzato come wafer portante durante la fabbricazione di dispositivi per ottimizzare la gestione termica sfruttando la sua elevata conducibilità termica e stabilità dimensionale.

Componenti ottici
- Applicato come base nei gruppi di sensori ottici per migliorare l'integrità del segnale grazie alle sue proprietà di superficie liscia e chimicamente inerte.

Wafer di zaffiro Al2O3 M piano 10x10x1,0 mm Imballaggio

Il wafer è fissato individualmente in un contenitore a dissipazione statica con imbottitura in schiuma per assorbire gli urti meccanici. È sigillato in un sacchetto antistatico per evitare la contaminazione da particolato e le scariche elettrostatiche. L'imballaggio è progettato per essere conservato in un ambiente a temperatura e umidità controllate. Sono disponibili opzioni di etichettatura personalizzata e di confezionamento a compartimenti stagni per soddisfare requisiti specifici di movimentazione e spedizione.

Domande frequenti

Q1: In che modo l'orientamento del piano M influenza le prestazioni del dispositivo?
A1: L'orientamento del piano M fornisce una superficie cristallografica unica che migliora l'uniformità di crescita dello strato epitassiale. Ciò si traduce in una migliore adesione del film e in una minore densità di difetti, a vantaggio delle applicazioni dei semiconduttori e dell'ottica, in quanto facilita la fabbricazione di dispositivi più precisi.

D2: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate per il wafer?
A2: Il wafer deve essere conservato in un ambiente pulito, a temperatura controllata e a bassa umidità per evitare l'assorbimento di umidità e lo stress termico. Un adeguato imballaggio antistatico e imbottito è essenziale per ridurre i danni meccanici e i rischi di contaminazione.

D3: SAM può fornire una personalizzazione delle dimensioni dei wafer o delle finiture superficiali?
A3: Sì, SAM offre opzioni di personalizzazione limitate, come modifiche allo spessore, alle dimensioni laterali e alla finitura superficiale. Le revisioni tecniche assicurano che qualsiasi modifica sia conforme ai requisiti di compatibilità dei processi necessari per gli ambienti di produzione avanzati.

Informazioni aggiuntive

Lo zaffiro, una forma cristallina di ossido di alluminio (Al2O3), è noto per la sua elevata conducibilità termica, inerzia chimica e durezza meccanica. Queste caratteristiche lo rendono adatto ad applicazioni che richiedono prestazioni stabili in condizioni operative difficili. La sua trasparenza ottica e le sue proprietà di isolamento elettrico ne facilitano l'uso in diverse apparecchiature elettroniche di alta precisione.

Nel contesto dei substrati di cristallo, le proprietà intrinseche dello zaffiro contribuiscono a migliorare l'affidabilità e le prestazioni dei dispositivi durante la fabbricazione di semiconduttori e ottiche avanzate. La comprensione della scienza dei materiali alla base dei substrati di Al2O3 aiuta a ottimizzare i parametri di processo per un'integrazione di livello successivo in applicazioni industriali e di ricerca ad alta richiesta.