AL10263 Wafer di zaffiro Al2O3 M Plane (10-10) 10x10x0,5 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 piano M (10-10) 10x10x0,5 mm Descrizione

Questo wafer di zaffiro a cristallo singolo, composto da ossido di alluminio (Al2O3, numero CAS: 1344-28-1), è tagliato con precisione lungo il piano M (10-10) con dimensioni di 10 mm x 10 mm e uno spessore di 0,5 mm. L'orientamento cristallografico definito garantisce proprietà fisiche e ottiche uniformi, fondamentali per la produzione di semiconduttori e altre applicazioni di substrati. Le tecniche di lavorazione controllate riducono al minimo i microdifetti, rendendolo adatto alla ricerca e all'uso industriale.

Wafer di zaffiro Al2O3 M Plane (10-10) 10x10x0,5 mm Applicazioni

Applicazioni elettroniche
- Utilizzato come substrato nei dispositivi a semiconduttore per ottenere proprietà dielettriche stabili sfruttando le sue precise tolleranze dimensionali.
- Applicato come materiale di base nei sistemi LED e laser per garantire una trasmissione uniforme della luce, sfruttando la sua superficie M plane atomicamente liscia.

Applicazioni industriali
- Impiegato nei moduli di sensori per garantire prestazioni costanti, sfruttando le sue proprietà cristallografiche definite.
- Utilizzato come componente di finestre in dispositivi ottici per ridurre al minimo la dispersione sfruttando l'inerzia chimica e la stabilità termica dello zaffiro.

Wafer di zaffiro Al2O3 M Plane (10-10) 10x10x0,5 mm Confezione

Il wafer è avvolto singolarmente in un materiale antistatico con inserti in schiuma per assorbire gli urti e prevenire i danni meccanici. Viene poi sigillato in un contenitore pulito e resistente all'umidità con un essiccante per controllare l'umidità. L'imballaggio è progettato per ridurre al minimo la contaminazione durante il trasporto e lo stoccaggio. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui la sigillatura sottovuoto e l'etichettatura specializzata, in base alle specifiche esigenze dell'utente.

Domande frequenti

Q1: Quali sono le tolleranze di planarità tipiche di questo wafer?
A1: Il wafer viene lavorato per ottenere una planarità superficiale entro pochi micrometri. Le misure interferometriche vengono utilizzate per valutare la planarità, assicurando che il substrato soddisfi i severi requisiti per le applicazioni litografiche e di precisione.

D2: È possibile garantire la coerenza dell'orientamento cristallografico nell'intero lotto?
A2: Sì, ogni wafer viene sottoposto ad analisi di diffrazione dei raggi X per confermare l'uniformità dell'orientamento del piano M (10-10). Questa fase di controllo della qualità verifica che l'intero lotto mantenga costanti le proprietà cristallografiche essenziali per i processi di alta precisione.

D3: In che modo l'imballaggio previene la contaminazione e i danni?
A3: I wafer sono sigillati singolarmente in involucri antistatici e imbottiti con inserti di schiuma. Il contenitore resistente all'umidità, insieme agli essiccanti, riduce al minimo il rischio di contaminazione e di stress meccanico durante il trasporto e lo stoccaggio, preservando l'integrità della superficie del wafer.

Informazioni aggiuntive

L'ossido di alluminio (Al2O3) è apprezzato nella scienza dei materiali per la sua elevata durezza, inerzia chimica e conduttività termica. Quando viene trasformato in wafer di zaffiro monocristallino, queste proprietà sono ottimizzate per fornire substrati affidabili per applicazioni elettroniche e ottiche. L'orientamento cristallografico preciso ottenuto grazie a metodi di taglio avanzati è essenziale per garantire comportamenti fisici ed elettronici uniformi in varie applicazioni ad alta richiesta.

I progressi nella crescita dei cristalli e nella lavorazione dei wafer hanno migliorato il controllo della densità dei difetti e delle finiture superficiali. La comprensione della relazione tra l'orientamento dei cristalli e le prestazioni funzionali è fondamentale nell'industria dei semiconduttori e dell'optoelettronica. Questa conoscenza aiuta gli scienziati dei materiali e gli ingegneri a selezionare substrati che soddisfino specifici criteri di prestazione sia per la ricerca che per le applicazioni industriali.