AL10262 Wafer di zaffiro Al2O3 M piano 0,5 pollici x 0,5 pollici x 0,5 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 piano M 0,5 pollici x 0,5 pollici x 0,5 mm Descrizione

Il wafer di zaffiro Al2O3 piano M 0,5 pollici x 0,5 pollici x 0,5 mm è composto da ossido di alluminio (Al2O3) di elevata purezza con un orientamento definito del piano M. Le dimensioni del substrato garantiscono la compatibilità con le apparecchiature di lavorazione di precisione. Le dimensioni del substrato garantiscono la compatibilità con le apparecchiature di lavorazione di precisione. La sua planarità su microscala supporta la deposizione accurata e il patterning litografico nelle applicazioni dei semiconduttori e dell'ottica. La rigorosa metrologia della superficie e la valutazione dei difetti garantiscono una qualità cristallografica costante, favorendo la ricerca sui materiali avanzati e i processi di produzione.

Wafer di zaffiro Al2O3 M piano 0,5 pollici x 0,5 pollici x 0,5 mm Applicazioni

1.Elettronica
- Utilizzato come substrato nei dispositivi a semiconduttore per migliorare l'uniformità dello strato epitassiale sfruttando l'orientamento controllato del piano M del wafer.
- Applicato come strato isolante nei circuiti microelettronici per ottenere un isolamento elettrico ottimale grazie alla sua inerzia chimica.

2.Sistemi ottici
- Serve come base per i rivestimenti ottici nei sensori ad alta risoluzione per gestire la riflettività della luce sfruttando l'elevata trasparenza e la struttura omogenea.
- Viene spesso utilizzato nei componenti laser per stabilizzare i percorsi ottici, favorendo allineamenti di precisione durante i processi di fabbricazione.

Wafer di zaffiro Al2O3 M piano 0,5 pollici x 0,5 pollici x 0,5 mm Imballaggio

Il wafer è fissato in un supporto antistatico e racchiuso in una custodia protettiva rigida rivestita con inserti in schiuma. Le condizioni di conservazione richiedono un ambiente pulito e a bassa umidità per evitare la contaminazione da particolato e la degradazione della superficie. Sono inoltre disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui buste sigillate sottovuoto e sacchetti con barriera antiumidità, per soddisfare requisiti specifici di stoccaggio e trasporto.

Domande frequenti

Q1: Che ruolo ha l'orientamento del piano M nella fabbricazione del dispositivo?
A1: L'orientamento del piano M influenza le proprietà direzionali durante la deposizione del film, facilitando una crescita uniforme e riducendo le sollecitazioni anisotrope nei dispositivi. Questa caratteristica è fondamentale per i processi che richiedono una precisa uniformità dello strato.

D2: In che modo la planarità su microscala del wafer influisce sulla lavorazione dei semiconduttori?
A2: La planarità su microscala riduce al minimo le irregolarità della superficie, caratteristica essenziale nei processi di fotolitografia e incisione. Questa precisione migliora la fedeltà del modello e riduce la variabilità del processo.

D3: Quali misure di controllo della qualità vengono attuate durante la produzione?
A3: Per monitorare la planarità e la densità dei difetti vengono impiegate tecniche avanzate di metrologia superficiale, come la microscopia a forza atomica e la profilometria ottica, che garantiscono la conformità del wafer a rigorosi criteri dimensionali e cristallografici.

Informazioni aggiuntive

I substrati di ossido di alluminio (Al2O3) sono ampiamente utilizzati in vari campi della ricerca e dell'industria grazie alla loro inerzia chimica e all'elevata stabilità termica. Trovano applicazione nell'elettronica, nei sistemi ottici e nelle tecnologie dei sensori, dove sono richieste caratteristiche superficiali precise. L'orientamento del piano M nei wafer di zaffiro offre vantaggi specifici per ottenere una deposizione uniforme di film sottili e una ridotta rugosità superficiale.

Nella scienza dei materiali, le ricerche in corso sottolineano l'importanza di orientamenti cristallografici controllati per ottimizzare le prestazioni dei dispositivi. I substrati di zaffiro di elevata purezza, lavorati con tecniche come la deposizione da vapore chimico, continuano a guidare i progressi nella tecnologia dei semiconduttori e nella fabbricazione di componenti ottici.