AL10260 Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) 0,5 pollici x 0,5 pollici x 0,5 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) 0,5 pollici x 0,5 pollici x 0,5 mm Descrizione

Il wafer è un substrato di ossido di alluminio (Al2O3) con orientamento del piano C (0001). Le sue dimensioni di 0,5 pollici per 0,5 pollici e uno spessore di 0,5 mm consentono l'integrazione con gli strumenti standard di lavorazione dei semiconduttori. L'allineamento cristallografico controllato è essenziale per ottenere superfici uniformi e una bassa densità di difetti. L'inerzia chimica intrinseca e la stabilità strutturale dell'Al2O3 rendono questo wafer un'efficace barriera isolante nelle applicazioni dei dispositivi elettronici e ottici avanzati.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) 0,5 pollici x 0,5 pollici x 0,5 mm Applicazioni

Elettronica
- Utilizzato come substrato nei dispositivi a semiconduttore per ottenere un isolamento elettrico costante sfruttando un orientamento cristallografico controllato (0001).
- Applicato come barriera dielettrica nei circuiti microelettronici per ridurre al minimo le interferenze del segnale utilizzando una superficie uniformemente liscia.

Ottico e industriale
- Utilizzato come finestra ottica nei sistemi LED per ottenere una trasmissione stabile della luce, sfruttando l'elevata inerzia chimica del materiale.
- Applicato come componente negli alloggiamenti dei sensori per ottenere stabilità termica in condizioni operative fluttuanti, sfruttando le robuste proprietà strutturali dell'Al2O3.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) 0,5 pollici x 0,5 pollici x 0,5 mm Confezione

Ogni wafer è confezionato singolarmente in un contenitore antistatico e a polvere controllata con inserti in schiuma imbottita. Il prodotto è sigillato in buste sottovuoto resistenti all'umidità e spedito in imballaggi a temperatura controllata per ridurre al minimo la contaminazione e lo stress meccanico. I wafer devono essere conservati in un ambiente asciutto e a bassa umidità. Su richiesta sono disponibili soluzioni di confezionamento personalizzate, tra cui etichettatura e compartimentazione specifiche.

Domande frequenti

Q1: Come si verifica l'orientamento del piano C (0001) per questi wafer?
A1: L'orientamento del wafer è confermato dall'analisi di diffrazione dei raggi X (XRD), che fornisce un esame dettagliato della struttura cristallografica. Questo metodo garantisce che l'allineamento soddisfi i criteri rigorosi necessari per i processi a valle dei semiconduttori.

D2: Quali precauzioni di manipolazione sono consigliate durante lo stoccaggio?
A2: I wafer devono essere conservati in un ambiente a temperatura e umidità controllata con un imballaggio antistatico. L'utilizzo di contenitori imbottiti e resistenti all'umidità riduce al minimo il rischio di contaminazione e lo stress fisico, preservando così l'integrità del substrato nel tempo.

D3: Sono disponibili modifiche per soddisfare specifiche esigenze di ricerca?
A3: Sono disponibili opzioni di personalizzazione per quanto riguarda le dimensioni dei wafer e i trattamenti superficiali. Qualsiasi modifica richiesta viene sottoposta a un processo controllato e a ispezioni superficiali dettagliate, per facilitare la compatibilità con diversi setup sperimentali e processi di fabbricazione.

Informazioni aggiuntive

I wafer di zaffiro derivano da ossido di alluminio (Al2O3) di elevata purezza e sono caratterizzati da una struttura cristallografica ordinata, che riduce al minimo la densità dei difetti e migliora la stabilità termica. Questi substrati sono parte integrante delle applicazioni che richiedono un isolamento preciso e una contaminazione minima.

Nell'ambito della scienza dei materiali, i substrati di Al2O3 svolgono un ruolo cruciale nella fabbricazione di semiconduttori e dispositivi ottici. Il loro uso si estende a contesti di ricerca in cui proprietà superficiali coerenti e cristallografia controllata influenzano in modo significativo le prestazioni e l'affidabilità dei dispositivi.