AL10254 Wafer di zaffiro Al2O3 Piano A (11-20) 10x10x1,0 mm

Sapphire Wafer Al2O3 A plane (11-20) 10x10x1.0 mm Descrizione

Il Sapphire Wafer Al2O3 A plane (11-20) 10x10x1,0 mm è un substrato prodotto con ossido di alluminio di elevata purezza (Al2O3, CAS 1344-28-1) con orientamento definito A-plane (11-20). L'area superficiale di 10 mm x 10 mm e lo spessore di 1,0 mm garantiscono la conformità con le apparecchiature standard per la lavorazione dei semiconduttori. L'orientamento controllato favorisce la deposizione uniforme dello strato e il miglioramento delle proprietà elettriche nella fabbricazione di dispositivi avanzati.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano A (11-20) 10x10x1,0 mm Applicazioni

1.
Applicazioni elettroniche
- Utilizzato come substrato nei dispositivi a semiconduttore per ottenere una crescita epitassiale uniforme sfruttando il preciso orientamento del piano A (11-20).
- Applicato come base dielettrica nei circuiti RF per migliorare l'integrità del segnale sfruttando la sua bassa densità di difetti e la sua composizione stabile.

2.
Applicazioni industriali
- Serve come elemento di base nei moduli di sensori per garantire la stabilità termica grazie alla sua elevata purezza e inerzia chimica.
- Viene spesso utilizzato nei sistemi ottici di precisione per mantenere l'accuratezza dimensionale e ridurre gli effetti di dispersione grazie alla sua struttura cristallografica controllata.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano A (11-20) 10x10x1,0 mm Imballaggio

Il wafer è confezionato singolarmente in un supporto antistatico per camera bianca e imbottito con inserti di schiuma per ridurre al minimo le vibrazioni. È sigillato in un sacchetto con barriera antiumidità per evitare la contaminazione da particolato. Lo stoccaggio deve avvenire in un ambiente a temperatura e umidità controllate. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate per soddisfare requisiti specifici di lavorazione e manipolazione.

Domande frequenti

Q1: In che modo l'orientamento del piano A (11-20) del wafer influenza la fabbricazione del dispositivo?
A1: L'orientamento del piano A (11-20) favorisce una deposizione epitassiale uniforme e riduce al minimo la densità delle dislocazioni, fattore critico per ottenere prestazioni costanti nei dispositivi semiconduttori e ottici.

D2: Quali protocolli di manipolazione sono consigliati per questi wafer di zaffiro?
A2: Per evitare la contaminazione da particolato e i danni fisici, si consiglia di maneggiare i wafer in un ambiente di camera bianca, utilizzando strumenti antistatici. Per mantenere l'integrità della superficie, si raccomanda un contatto minimo con le dita utilizzando pinzette o strumenti a vuoto.

D3: Le specifiche dimensionali di questo wafer sono fisse?
A3: Le dimensioni standard sono 10x10x1,0 mm; tuttavia, potrebbero essere disponibili personalizzazioni in base alle capacità produttive e alle specifiche richieste di processo. Si consiglia di consultare SAM per le opzioni dettagliate.

Informazioni aggiuntive

Lo zaffiro, o ossido di alluminio cristallino, è noto per la sua durezza, stabilità termica e inerzia chimica. Queste proprietà lo rendono il materiale preferito per i substrati utilizzati in ambienti ad alta temperatura e ad alta sollecitazione. Gli orientamenti cristallografici definiti offrono una notevole uniformità, favorendo processi di fabbricazione di dispositivi precisi.

Nella scienza dei materiali, la sintesi controllata di wafer di zaffiro svolge un ruolo importante in varie applicazioni ad alte prestazioni. La comprensione dell'interazione tra orientamento cristallografico, purezza e precisione dimensionale è essenziale per ottenere risultati ottimali di lavorazione nelle industrie dei semiconduttori, dell'ottica e dei sensori.