AL10253 Wafer di zaffiro Al2O3 R piano 5x5x0,5 mm

Sapphire Wafer Al2O3 R plane 5x5x0,5 mm Descrizione

Sapphire Wafer Al2O3 R plane 5x5x0,5 mm è un substrato di Al2O3 progettato per la fabbricazione ad alta precisione nel settore dei semiconduttori e della ricerca ottica. Le sue dimensioni di 5 mm x 5 mm e lo spessore di 0,5 mm garantiscono la compatibilità con le apparecchiature di lavorazione standard. L'orientamento del piano R favorisce una migliore uniformità della superficie e l'adesione degli strati, consentendo operazioni di deposizione e incisione efficaci. L'inerzia chimica intrinseca dell'Al2O3 ne favorisce l'uso in ambienti che richiedono una contaminazione minima.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano R 5x5x0,5 mm Applicazioni

Applicazioni di elettronica e semiconduttori
- Utilizzato come substrato nei circuiti integrati per migliorare l'isolamento elettrico sfruttando la sua inerzia chimica.
- Applicato come base nei dispositivi MEMS per ottenere prestazioni stabili grazie alle sue dimensioni controllate e alle caratteristiche superficiali uniformi.

Strumentazione ottica e di precisione
- Serve come componente nei sistemi LED e laser per supportare la stabilità termica sfruttando la sua elevata conduttività termica.
- Utilizzato nei sensori ottici per facilitare la deposizione accurata degli strati grazie all'orientamento costante del piano R.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano R 5x5x0,5 mm Imballaggio

I wafer sono confezionati singolarmente in contenitori antistatici con inserti in schiuma per attutire le sollecitazioni meccaniche. Le buste sigillate con pacchetti essiccanti aiutano a prevenire l'esposizione all'umidità e il substrato viene conservato in piano per mantenerne l'integrità. Sono disponibili ulteriori opzioni, come l'etichettatura personalizzata e la modifica dei contenitori, per soddisfare i requisiti specifici di laboratorio e di gestione industriale.

Domande frequenti

D1: In che modo l'orientamento del piano R favorisce le successive fasi di lavorazione?
A1: L'orientamento del piano R riduce al minimo le irregolarità della superficie e migliora l'adesione dello strato durante i processi di deposizione e incisione. Questa coerenza è fondamentale per le applicazioni che richiedono una modellazione precisa e una fabbricazione accurata dei dispositivi.

D2: Quali misure di manipolazione sono consigliate per mantenere l'integrità del wafer?
A2: Si consiglia di maneggiare il wafer in una camera bianca utilizzando strumenti antistatici e di conservarlo in un imballaggio sigillato e imbottito. Queste misure aiutano a proteggere dalla contaminazione da particolato e dalle sollecitazioni meccaniche durante la lavorazione e il trasporto.

D3: Sono disponibili dimensioni personalizzate per questo substrato di wafer?
A3: La personalizzazione delle dimensioni dei wafer è possibile dopo una revisione tecnica. I requisiti specifici vengono valutati per garantire il mantenimento della qualità cristallografica e della compatibilità di lavorazione, e le modifiche vengono valutate caso per caso.

Informazioni aggiuntive

Lo zaffiro, o ossido di alluminio (Al2O3), è apprezzato nella scienza dei materiali per la sua inerzia chimica e l'elevata conducibilità termica. Queste caratteristiche lo rendono un candidato adatto per i substrati in applicazioni che richiedono prestazioni termiche e chimiche stabili, in particolare nella lavorazione dei semiconduttori e nella produzione di componenti ottici.

I progressi nelle tecniche di preparazione dei substrati hanno migliorato la riproducibilità dell'orientamento dei cristalli e il controllo dello spessore. La comprensione dell'interazione tra cristallografia e proprietà dei materiali è essenziale per ottimizzare le prestazioni in ambienti di produzione di precisione e facilitare nuovi sviluppi nell'integrazione dei dispositivi.