AL10252 Zaffiro Wafer Al2O3 R piano 10x10x0,5 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 piano R 10x10x0,5 mm Descrizione

Il wafer di zaffiro Al2O3 piano R 10x10x0,5 mm è fabbricato in ossido di alluminio (Al2O3) di elevata purezza e presenta un orientamento sul piano R che facilita la dissipazione uniforme del calore e riduce al minimo i difetti cristallografici. Le dimensioni (10 mm x 10 mm x 0,5 mm) sono mantenute con precisione per supportare l'integrazione nelle apparecchiature di lavorazione dei semiconduttori. La finitura superficiale e l'inerzia chimica lo rendono adatto come substrato stabile per applicazioni ad alta temperatura e ottiche.

Wafer di zaffiro Al2O3 R piano 10x10x0,5 mm Applicazioni

Applicazioni elettroniche
- Utilizzato come substrato nei LED e nei dispositivi a semiconduttore per ottenere una migliore gestione termica sfruttando la sua eccellente conduttività termica e la bassa densità di difetti.
- Applicato come strato di base per componenti RF per garantire l'affidabilità dimensionale e ridurre al minimo la perdita di segnale grazie alla sua topologia superficiale liscia.

Applicazioni industriali
- Serve come substrato isolante nei circuiti ad alta frequenza per garantire la stabilità dei componenti, sfruttando la sua inerzia chimica e l'orientamento cristallografico costante.
- Viene spesso utilizzato nei moduli di sensori per ottimizzare l'integrità del segnale grazie alla sua minima espansione termica e all'uniformità strutturale.

Wafer di zaffiro Al2O3 R piano 10x10x0,5 mm Imballaggio

I wafer sono confezionati singolarmente in supporti antistatici e sigillati in contenitori rigidi rivestiti di schiuma per evitare danni fisici e contaminazione da particelle. Le raccomandazioni per lo stoccaggio includono un ambiente fresco e asciutto con umidità controllata per preservare l'integrità del materiale. Sono disponibili ulteriori opzioni di personalizzazione, come il confezionamento sottovuoto e l'etichettatura specifica, per soddisfare i requisiti di manipolazione speciali.

Domande frequenti

Q1: In che modo l'orientamento del piano R influisce sulle prestazioni del wafer?
A1: L'orientamento del piano R fornisce una struttura cristallina uniforme che migliora la dissipazione del calore e riduce al minimo i difetti durante la lavorazione ad alta temperatura. Questo orientamento controllato garantisce che il wafer mantenga le sue proprietà strutturali e termiche in condizioni operative diverse.

D2: Quali misure di controllo della qualità vengono attuate durante la fabbricazione?
A2: SAM utilizza tecniche avanzate di CVD combinate con ispezioni superficiali al SEM per verificare la coerenza dell'orientamento dei cristalli e rilevare le imperfezioni su microscala. Questo rigoroso processo di verifica supporta l'accuratezza dimensionale e l'elevata uniformità, fondamentali per le applicazioni dei semiconduttori.

D3: Questo wafer di zaffiro può essere integrato nei processi standard dei semiconduttori?
A3: Sì, le dimensioni di 10x10x0,5 mm sono state definite per allinearsi alle apparecchiature standard di lavorazione dei semiconduttori. La sua inerzia chimica e il preciso orientamento cristallografico facilitano l'integrazione nei flussi di lavoro di fabbricazione esistenti senza richiedere modifiche al processo.

Informazioni aggiuntive

I wafer di zaffiro, ottenuti da un singolo cristallo di Al2O3, servono come substrati in vari settori tecnici grazie alle loro eccellenti proprietà di stabilità termica e isolamento. Il loro ruolo nei dispositivi ottici ed elettronici è spesso legato alla capacità di sopportare ambienti di lavorazione estremi senza subire degradazioni significative. L'interazione tra l'orientamento dei cristalli e la minimizzazione dei difetti è fondamentale per ottenere prestazioni costanti.

La comprensione delle specifiche dei wafer, comprese le dimensioni e i parametri di finitura superficiale, è essenziale per i ricercatori e gli ingegneri di processo. La caratterizzazione dettagliata dei materiali consente di ottimizzare i processi di fabbricazione dei dispositivi, contribuendo a migliorare le prestazioni operative in diverse applicazioni industriali.