AL10247 Wafer in zaffiro Al2O3 piano C (0001) 10x10x1 mm

Sapphire Wafer Al2O3 C-plane (0001) 10x10x1 mm Descrizione

Sapphire Wafer Al2O3 C-plane (0001) 10x10x1 mm è un substrato di allumina di elevata purezza con orientamento controllato (0001). Con dimensioni di 10x10 mm e uno spessore di 1 mm, si integra bene con le apparecchiature standard per semiconduttori. L'inerzia chimica e la stabilità termica ne consentono l'impiego efficace nei processi di fabbricazione dei dispositivi, mentre la bassa densità di dislocazioni riduce al minimo i microdifetti nelle applicazioni critiche.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) 10x10x1 mm Applicazioni

Elettronica
- Utilizzato come substrato nella fabbricazione di circuiti integrati per ottenere una deposizione uniforme del film sfruttando l'orientamento cristallografico controllato del wafer, riducendo così la densità di difetti negli strati attivi.

Dispositivi ottici
- Applicato come piattaforma ottica in gruppi di sensori e laser per mantenere stabile la trasmissione della luce sfruttando la sua intrinseca resistenza termica e inerzia chimica.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) 10x10x1 mm Imballaggio

Ogni wafer di zaffiro è imballato singolarmente in un contenitore antistatico con imbottitura in schiuma a basso degassamento per evitare danni meccanici. Il wafer viene conservato in un ambiente pulito e a umidità controllata per ridurre al minimo la contaminazione superficiale e mantenere la planarità. Le opzioni di imballaggio includono una compartimentazione specializzata e indicatori di umidità, per garantire condizioni adeguate durante lo stoccaggio e il trasporto.

Domande frequenti

Q1: Come si verifica l'orientamento cristallografico del substrato?
A1: L'analisi di diffrazione dei raggi X (XRD) viene utilizzata per confermare l'allineamento del piano C (0001) durante la produzione. Questa misurazione, insieme alla regolare profilatura ottica, garantisce la coerenza dell'orientamento del cristallo e riduce al minimo le variazioni di lavorazione.

D2: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate per questo wafer?
A2: Il wafer deve essere conservato in un ambiente privo di polvere e a umidità controllata, a temperature comprese tra i 20°C e i 25°C. Queste condizioni aiutano a mantenere l'integrità della superficie e a prevenire la contaminazione o i difetti indotti dal calore.

D3: Le dimensioni dei wafer possono essere personalizzate per applicazioni specifiche?
A3: Le opzioni di personalizzazione possono essere esplorate in base alla fattibilità tecnica, preservando le proprietà cristallografiche controllate del substrato. Si consiglia di consultare il team tecnico per valutare le modifiche alla produzione per applicazioni specifiche.

Informazioni aggiuntive

L'allumina (Al2O3) è un materiale ceramico apprezzato per la sua durezza, isolamento elettrico e stabilità termica. Essendo una forma sintetica di zaffiro, questo wafer beneficia di metodi di crescita controllata dei cristalli che producono una struttura uniforme e con pochi difetti. Queste proprietà sono fondamentali nelle applicazioni che richiedono substrati durevoli con irregolarità interfacciali minime.

Una chiara comprensione delle proprietà strutturali è essenziale nell'ingegneria dei semiconduttori e dell'ottica. L'orientamento controllato del piano C favorisce l'allineamento dei film sottili successivi, riducendo i problemi legati all'interfaccia e favorendo il miglioramento delle prestazioni dei dispositivi in ambienti ad alta precisione.