AL10245 Wafer di zaffiro Al2O3 Piano A (11-20) 5x5x0,5 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 piano A (11-20) 5x5x0,5 mm Descrizione

Il wafer di zaffiro Al2O3 piano A (11-20) 5x5x0,5 mm è prodotto con ossido di alluminio sintetico (Al2O3) utilizzando processi termici controllati per ottenere l'orientamento desiderato del piano A (11-20). Le dimensioni del wafer di 5 mm per 5 mm con uno spessore di 0,5 mm assicurano la compatibilità con le apparecchiature standard per la produzione di semiconduttori. Lo specifico allineamento cristallografico supporta proprietà anisotropiche definite, critiche per le applicazioni ottiche ed elettriche. Il processo di lavorazione controllato riduce al minimo i difetti, essenziali per ottenere prestazioni accurate del dispositivo.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano A (11-20) 5x5x0,5 mm Applicazioni

Elettronica
- Utilizzato come substrato nei componenti dei circuiti RF per ridurre al minimo la perdita di segnale sfruttando le proprietà dielettriche stabili.
- Serve come strato di base nei microdispositivi a semiconduttore per garantire la stabilità dimensionale sfruttando la struttura cristallografica uniforme.

Optoelettronica
- Applicato come finestra ottica nei moduli LED per ottenere una trasmissione uniforme della luce grazie alla struttura reticolare controllata dai difetti.
- Utilizzato spesso nei componenti di assemblaggio laser per realizzare una gestione precisa dei fotoni sfruttando le proprietà anisotropiche del wafer.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano A (11-20) 5x5x0,5 mm Imballaggio

Il wafer è fissato individualmente in una busta antistatica e imbottita e alloggiato in un contenitore rigido rivestito di schiuma per evitare danni meccanici e contaminazione. Per mantenere l'integrità della superficie, si consiglia di conservare il prodotto a temperatura controllata e in condizioni di bassa umidità. Ulteriori opzioni di personalizzazione includono l'imballaggio con barriera antiumidità e l'etichettatura specifica per soddisfare gli standard di laboratorio o di produzione.

Domande frequenti

Q1: In che modo l'orientamento del piano A controllato (11-20) influisce sulle prestazioni del dispositivo?
A1: L'orientamento controllato del piano A (11-20) migliora le proprietà anisotropiche, fondamentali per ottenere comportamenti ottici ed elettronici prevedibili nei dispositivi. Questo allineamento migliora la coerenza della propagazione del segnale e supporta una modellazione precisa durante la fabbricazione dei semiconduttori.

D2: Quali misure vengono adottate durante la fabbricazione per garantire difetti superficiali minimi?
A2: Il processo di produzione comprende la sintesi ad alta temperatura e le ispezioni superficiali al SEM. Queste fasi sono implementate per misurare e mantenere una bassa densità di difetti superficiali, che è fondamentale per garantire un'integrazione efficace del dispositivo e prestazioni a lungo termine.

D3: Come viene mantenuta l'uniformità dello spessore del wafer durante la produzione?
A3: Per mantenere l'uniformità di spessore di 0,5 mm vengono utilizzati rigorosi controlli di processo, come la lucidatura meccanica di precisione e la metrologia dello spessore in linea. Questi controlli impediscono variazioni che potrebbero avere un impatto sulla compatibilità dei dispositivi e sull'efficienza generale della fabbricazione.

Informazioni aggiuntive

I substrati di zaffiro, composti da ossido di alluminio (Al2O3), sono parte integrante della fabbricazione di vari dispositivi semiconduttori e optoelettronici. La loro intrinseca inerzia chimica e trasparenza ottica li rende adatti ad applicazioni che richiedono un'elevata conduttività termica e stabilità strutturale. Questi attributi sono dovuti principalmente al robusto legame cristallino presente nei materiali Al2O3.

L'orientamento del piano A (11-20) in questi wafer fornisce un comportamento anisotropo definito che può essere sfruttato in sistemi elettronici e fotonici avanzati. L'ingegnerizzazione di questi substrati richiede una precisa lavorazione termica e meccanica, per garantire che le proprietà microstrutturali supportino applicazioni di dispositivi ad alte prestazioni in tutti i settori tecnici.