AL10242 Wafer in zaffiro Al2O3 piano C (0001) 10x10x1 mm

Sapphire Wafer Al2O3 C-plane (0001) 10x10x1 mm Descrizione

Il wafer di zaffiro Al2O3 C-plane (0001) 10x10x1 mm è prodotto con ossido di alluminio (Al2O3) di elevata purezza con orientamento confermato (0001) che offre una superficie atomicamente liscia. Le dimensioni di 10x10 mm e lo spessore di 1 mm garantiscono la compatibilità con le apparecchiature standard per la lavorazione dei semiconduttori. La bassa densità di difetti superficiali e il preciso allineamento dei cristalli facilitano i successivi processi di deposizione e l'accuratezza della fabbricazione dei dispositivi.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) 10x10x1 mm Applicazioni

1.
Elettronica
- Utilizzato come substrato nei dispositivi a semiconduttore per ottenere una deposizione controllata del film sfruttando l'orientamento uniforme del piano C (0001) del wafer.
- Applicato come base per transistor a film sottile nei sistemi di visualizzazione per mantenere l'uniformità dello strato e migliorare le prestazioni del dispositivo.

2.
Industriale
- Utilizzato come strato isolante nei moduli di sensori ad alta temperatura per ridurre gli errori di espansione termica, sfruttando la composizione stabile di Al2O3.
- Applicato nella fabbricazione di componenti ottici di precisione per supportare un allineamento accurato e ridurre al minimo la dispersione superficiale grazie alla sua bassa densità di difetti.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) 10x10x1 mm Imballaggio

Il wafer è confezionato in un supporto antistatico rivestito di schiuma all'interno di un contenitore sigillato per proteggerlo da danni fisici e contaminazione. È conservato in condizioni controllate e asciutte a temperatura ambiente per evitare la degradazione dovuta all'umidità. Sono disponibili soluzioni di confezionamento personalizzate, tra cui buste sigillate sottovuoto ed etichettatura specifica per i lotti, per soddisfare requisiti specifici di manipolazione e trasporto.

Domande frequenti

Q1: Qual è l'impatto dell'orientamento del piano C (0001) sulla fabbricazione del dispositivo?
A1: L'orientamento del piano C (0001) fornisce una superficie atomicamente liscia che migliora l'adesione del film sottile e riduce la dispersione durante la deposizione, migliorando le prestazioni complessive del dispositivo.

D2: In che modo le dimensioni del wafer influenzano la sua integrazione nelle apparecchiature di lavorazione esistenti?
A2: Le dimensioni standardizzate di 10x10 mm e lo spessore di 1 mm assicurano la compatibilità con i comuni strumenti di lavorazione dei semiconduttori, facilitando una gestione efficiente durante la fabbricazione e l'allineamento in vari sistemi di deposizione.

D3: Quali misure di controllo della qualità vengono attuate durante la produzione dei wafer?
A3: Il wafer viene sottoposto a un'ispezione rigorosa che comprende la microscopia a forza atomica e la valutazione ottica per valutare la rugosità della superficie e rilevare i microdifetti, garantendo la coerenza delle proprietà del substrato.

Informazioni aggiuntive

I wafer di zaffiro, composti da Al2O3, sono apprezzati nella scienza dei materiali per la loro eccellente resistenza termica e chimica. La loro struttura consente un controllo preciso della morfologia superficiale, fondamentale per i dispositivi ad alte prestazioni in elettronica e ottica. I ricercatori spesso sfruttano questi substrati per studi avanzati di deposizione di film grazie alle loro proprietà cristalline stabili.

La comprensione dell'interazione tra l'orientamento dei cristalli e le proprietà del materiale offre vantaggi significativi nella selezione dei substrati per varie applicazioni. I progressi nelle tecniche di deposizione e nell'analisi della superficie continuano a perfezionare le capacità prestazionali dei wafer di zaffiro, con un impatto su una serie di campi tecnologici che vanno dalla microelettronica alla fotonica.