AL10241 Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) 5x5x0,5 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 C-plane (0001) 5x5x0,5 mm Descrizione

Il wafer di zaffiro Al2O3 C-plane (0001) 5x5x0,5 mm è prodotto da ossido di alluminio monocristallino (Al2O3) con orientamento (0001). Le dimensioni di 5 mm x 5 mm e lo spessore di 0,5 mm favoriscono l'integrazione nei processi di assemblaggio di semiconduttori e ottica. L'orientamento cristallografico definito garantisce una superficie liscia e una ridotta densità di dislocazioni. Il prodotto è caratterizzato da condizioni di crescita controllate, verificate attraverso la diffrazione di raggi X e la profilometria superficiale.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) 5x5x0,5 mm Applicazioni

1.Elettronica
- Utilizzato come substrato nei circuiti integrati per ottenere proprietà dielettriche uniformi sfruttando il preciso orientamento cristallografico e la superficie piatta.
- Applicato come strato isolante nei dispositivi microelettronici per ridurre al minimo le interferenze elettriche grazie alla sua struttura stabile in Al2O3.

2.Ottica
- Serve come finestra ottica nei sistemi laser per mantenere chiarezza e coerenza grazie alla sua bassa densità di difetti.
- Utilizzato nei dispositivi fotonici come materiale di base per ridurre le perdite di dispersione e migliorare le prestazioni complessive del dispositivo.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) 5x5x0,5 mm Confezione

Ogni wafer di zaffiro è sigillato singolarmente in una busta antistatica e inserito in un contenitore imbottito per evitare danni meccanici e contaminazione. L'imballaggio utilizza inserti in schiuma per limitare l'ingresso di particelle. Conservare in un ambiente a temperatura e umidità controllate per mantenere l'integrità del materiale. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui etichettatura e compartimentazione aggiuntive, per soddisfare requisiti specifici di manipolazione e conservazione.

Domande frequenti

Q1: In che modo l'orientamento del piano C influenza la lavorazione dei wafer?
A1: L'orientamento del piano C (0001) fornisce una superficie uniforme e liscia dal punto di vista atomico, che favorisce l'accuratezza dei processi di litografia e deposizione riducendo la densità delle dislocazioni. Questo orientamento garantisce la coerenza nelle successive fasi di fabbricazione dei dispositivi.

D2: Quali misure di controllo della qualità vengono utilizzate durante la produzione dei wafer?
A2: Il controllo di qualità comprende la diffrazione dei raggi X (XRD) per verificare l'orientamento cristallografico e la profilometria della superficie per valutare la planarità e i livelli di difetti. Questi test confermano che il wafer soddisfa le rigorose specifiche richieste per le applicazioni dei semiconduttori.

D3: È possibile personalizzare le dimensioni o lo spessore dei wafer?
A3: Le opzioni di personalizzazione possono essere disponibili in base alle capacità di produzione. Le modifiche specifiche delle dimensioni o dello spessore richiedono una discussione sulla fattibilità del processo e sulle modifiche associate al controllo di qualità.

Informazioni aggiuntive

Lo zaffiro, come forma di Al2O3 monocristallino, svolge un ruolo fondamentale nella scienza dei materiali grazie alla sua inerzia chimica, all'elevata stabilità termica e alle eccellenti proprietà di isolamento elettrico. La sua struttura dura e stabile lo rende un substrato interessante per le applicazioni di alta precisione nei settori dei semiconduttori e dell'ottica.

La comprensione delle implicazioni dell'orientamento cristallografico nei wafer di zaffiro è essenziale per ottimizzare le prestazioni dei dispositivi. Metodi di caratterizzazione dettagliati, come la XRD e la profilometria superficiale, assicurano che questi substrati soddisfino gli standard rigorosi richiesti dai processi di produzione avanzati.