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AC11707 Vassoio per semiconduttori in allumina cramica Vassoio Al2O3

Catalogo no. AC11707
Materiale Al2O3
Forma Vassoio

Alumina Cramic Semiconductor Tray Al2O3 Tray è un vassoio in ceramica realizzato in ossido di alluminio per applicazioni di lavorazione dei semiconduttori. Stanford Advanced Materials (SAM) produce questi vassoi utilizzando processi di sinterizzazione controllati e ispezioni superficiali tramite microscopia ottica per ridurre al minimo i difetti. Il protocollo di produzione include trattamenti termici calibrati e ispezioni dimensionali, garantendo il rispetto di tolleranze rigorose e mantenendo l'inerzia chimica e la stabilità termica intrinseche del materiale.

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FAQ

Quale ruolo specifico svolge il materiale Al2O3 nei vassoi per la lavorazione dei semiconduttori?

L'Al2O3 offre inerzia chimica e stabilità termica, rendendolo adatto ai processi ad alta temperatura. Le sue proprietà isolanti aiutano a prevenire la contaminazione di wafer di semiconduttori sensibili durante le operazioni di lavorazione.

Esistono procedure di manipolazione consigliate per il vassoio in ceramica per evitare danni?

Sì, il vassoio deve essere maneggiato con guanti protettivi appropriati e conservato in un ambiente pulito e asciutto. Riducendo al minimo gli urti fisici e l'esposizione a variazioni eccessive di temperatura, si preserva la sua integrità strutturale.

In che modo il processo di produzione controlla le tolleranze dimensionali del vassoio?

Il processo di fabbricazione comprende sinterizzazione calibrata e ispezioni dimensionali post-produzione con sistemi ottici di precisione. Queste misure contribuiscono a mantenere tolleranze ristrette per garantire la compatibilità con le apparecchiature di lavorazione dei semiconduttori. Contattateci per ulteriori dettagli.

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