Forno 950C CSS e RTP OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 Descrizione
Ilforno CSS e RTP 950C OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 è un forno all'avanguardia per l'elaborazione termica rapida (RTP), progettato specificamente per il rivestimento di film a sublimazione a distanza ravvicinata (CSS) su wafer fino a 12 pollici di diametro. Questo forno può raggiungere una temperatura massima di lavoro di 950°C e dispone di due gruppi di riscaldatori alogeni (superiore e inferiore) che possono raggiungere indipendentemente una velocità di riscaldamento fino a 20°C al secondo. Il supporto superiore del campione è girevole e facilita il rivestimento uniforme del film a velocità comprese tra 1 e 10 giri al minuto.
Questo forno è particolarmente efficace per lo sviluppo di film sottili di nuova generazione per celle solari, compresi materiali come il tellururo di cadmio (CdTe), il solfuro e la perovskite. È adatto anche per la ricottura di wafer di semiconduttori da 12 pollici.
Forno 950C CSS e RTP OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 Caratteristiche tecniche
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Caratteristiche
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- Una camera da vuoto da 20 pollici di diametro costruita in acciaio inossidabile, che raggiunge un livello di vuoto fino a 10^-5 torr utilizzando una turbopompa.
- Due piastre riscaldanti a infrarossi (IR) da 12 pollici posizionate strategicamente all'interno della camera per ottimizzare la distribuzione del calore.
- Un termoregolatore di precisione Eurotherm che garantisce un'accuratezza della temperatura entro ±0,1°C.
- Un computer touchscreen che consente un controllo completo di tutti i parametri di lavorazione.
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Parametri di base
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- Temperatura massima di riscaldamento Temperatura di riscaldamento: 950℃
- Massima differenza di temperatura tra i due riscaldatori Differenza di temperatura tra i due riscaldatori: ≤ 300 ℃
- Velocità di riscaldamento max. Velocità di riscaldamento: 8℃/s
- Velocità massima di raffreddamento: <20℃/s Velocità di raffreddamento: <20℃/s
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Alimentazione
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208 - 240VAC, tre fasi, 50/60 Hz
60kw
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Camera a vuoto
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- Dimensioni della camera: ID 500 mm x H 460 mm
- Due finestre al quarzo di 60 mm di diametro sono costruite per facilitare l'osservazione.
- Un deflettore scorrevole a tenuta d'aria è integrato per bloccare la fonte di evaporazione sotto vuoto spinto.
- Un vacuometro digitale di precisione anticorrosione è fornito di serie con l'unità, per garantire misurazioni accurate del vuoto.
- Pompa per vuoto opzionale: 10-5 torr con turbopompa o 10-2 torr con pompa meccanica.
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Riscaldatore e portacampioni
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- Due riscaldatori a infrarossi sono posizionati sulla parte superiore e inferiore della camera con distanze regolabili da 2 a 25 mm.
- I riscaldatori sono realizzati in acciaio inossidabile con una camicia fredda ad acqua per mantenere l'isolamento termico.
- Il supporto circolare per wafer da 12" di diametro è incorporato nel riscaldatore superiore per tenere il substrato.
- Le piastre di grafite sono posizionate sulla parte superiore del riscaldatore IR per rendere il riscaldamento più uniforme.
- Il portacampioni superiore è ruotabile a una velocità regolabile da 1 a 10 giri/min.
- Per il raffreddamento dei riscaldatori è incluso un refrigeratore d'acqua circolante da 58 l/min.
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Sistema di controllo
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- Due termoregolatori digitali Eurotherm 3000 con 24 segmenti programmabili offrono un controllo indipendente dei riscaldatori superiore e inferiore con una precisione di +/- 0,1ºC.
- Tutte le operazioni, come i profili di temperatura, la pressione del vuoto, la velocità di rotazione e il sollevamento della flangia, sono controllate da un computer touch screen tramite un PLC.
- Il computer è in grado di visualizzare i profili di temperatura e di vuoto e di avviare 10 programmi di lavorazione preimpostati.
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Peso netto
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~500 kg
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Dimensioni
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L 1450 X L 1250 X H 2100 mm
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Garanzia
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- Garanzia limitata di un anno con assistenza a vita.
- ATTENZIONE: Eventuali danni causati dall'uso di gas corrosivi e acidi non sono coperti dalla garanzia limitata di un anno SAM.
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Certificato
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- Certificazione CE
- La certificazione NRTL o CSA è disponibile a pagamento.
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Forno 950C CSS e RTP OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 Applicazioni
Ilforno 950C CSS e RTP OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 è particolarmente efficace per lo sviluppo di film sottili di nuova generazione per celle solari, compresi materiali come il tellururo di cadmio (CdTe), il solfuro e la perovskite. È adatto anche per la ricottura di wafer di semiconduttori da 12 pollici.
Forno 950C CSS e RTP OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 Confezione
Il nostro forno 950C CSS e RTP OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 viene trattato con cura durante lo stoccaggio e il trasporto per preservare la qualità del prodotto nelle sue condizioni originali.
