Forno termico ultraveloce da tavolo RTP-M1 Descrizione
Ilforno di pressatura termica ultraveloce da tavolo è un forno di pressatura termica ultraveloce (UFTP) caratterizzato da una notevole velocità di riscaldamento di oltre 200°C al minuto e da una velocità massima di riscaldamento fino a 2900°C. Questo forno è stato progettato per funzionare con un peso morto selezionabile e un'atmosfera controllata, offrendo versatilità nella lavorazione dei materiali.
Economico ed efficiente, l'RTP-M1 è uno strumento prezioso per lo studio delle proprietà dei materiali in condizioni di surriscaldamento rapido. Inoltre, può essere utilizzato come forno di ricottura RTP o facilmente modificato in un sistema di rivestimento per film CSS (Continuous Synthesis System), ampliando le sue capacità per varie applicazioni di ricerca e produzione.
Forno di pressatura termica ultraveloce da tavolo RTP-M1 Caratteristiche tecniche
Caratteristiche
|
- Tubo di quarzo da 6" e flangia SS come camera di controllo dell'atmosfera con un livello di vuoto di 5x10-5 torr.
- Due dischi di tungsteno o di grafite come elemento riscaldante possono raggiungere rapidamente i 2900°C max. a bassa tensione e corrente elevata.
- Lo spazio tra le due lamine è regolabile per vari spessori di campione.
- Il peso morto sigillato sotto vuoto può essere applicato al campione per la pressatura a caldo.
|
Temperatura di lavoro
|
- Temperatura massima di riscaldamento: 2900℃ (≤30s)
- Velocità di riscaldamento: ≤200℃
|
Potenza
|
220 V CA, 19 KW, 50/60 Hz
|
Controllo della temperatura
|
- Sensore di temperatura digitale a infrarossi
- Modalità di riscaldamento:
(1) Riscaldamento manuale con visualizzazione della temperatura a infrarossi per raggiungere la massima velocità di riscaldamento ( ~ 200℃/S)
(2) Controllo della temperatura programmabile tramite sensore IR e display digitale
- Regolatore di temperatura digitale
|
Camera a vuoto
|
- Quarzo di elevata purezza con dimensioni:
O.D.: φ216mm, I.D.: φ206mm, Lunghezza: 300mm
- Le flange SS sono integrate nella parte superiore e inferiore con valvola di ingresso e uscita del gas e porta KF 40 per la pompa del vuoto.
- Livello di vuoto: 10-2 torr con pompa meccanica e 10-5 con turbopompa.
- Il vuotometro digitale è incluso.
|
Garanzia
|
- Garanzia limitata di un anno con assistenza a vita.
- ATTENZIONE: eventuali danni causati dall'uso di gas corrosivi e acidi non sono coperti dalla garanzia limitata di un anno SAM.
|
Peso
|
|
Dimensioni dell'apparecchiatura
|
700 mm L*600 mm W* 1850 mm H
|
Certificato
|
- Certificato CE
- La certificazione NRTL o CSA è disponibile a un costo aggiuntivo.
|
Forno di pressatura termica ultraveloce da tavolo RTP-M1 Applicazioni
- Ricerca sui materiali: Questi forni sono utilizzati per studiare le proprietà dei materiali in condizioni estreme, come l'alta temperatura e la pressione. I ricercatori possono studiare le transizioni di fase, il comportamento dei materiali e la sintesi di nuovi materiali.
- Nanotecnologia: Nel campo delle nanotecnologie, questi forni sono utilizzati per la sintesi e la lavorazione di nanomateriali come nanoparticelle, nanofili e film sottili. Il controllo preciso della temperatura e della pressione consente di produrre nanostrutture di alta qualità.
- Industria dei semiconduttori: I forni per la pressatura termica ultraveloce sono utilizzati nell'industria dei semiconduttori per processi quali l'incollaggio dei wafer, il fissaggio delle matrici e la sigillatura delle confezioni. Questi processi richiedono un controllo preciso della temperatura e della pressione per garantire il corretto incollaggio e l'affidabilità dei componenti elettronici.
Forno di pressatura termica ultraveloce da tavolo RTP-M1 Packaging
Il nostro forno termico ultraveloce da tavolo RTP-M1 viene trattato con cura durante lo stoccaggio e il trasporto per preservare la qualità del prodotto nelle sue condizioni originali.