Forno RTP compatto ad atmosfera controllata 1100C OTF-1200X-4-RTP Descrizione
Ilforno 1100C Compact Atmosphere Controlled RTP è un forno tubolare compatto per l'elaborazione termica rapida dotato di un tubo di lavorazione al quarzo con diametro interno di 4" e di flange per il vuoto. Progettato specificamente per la ricottura di wafer di semiconduttori o celle solari con diametri fino a 3", questo forno offre precise capacità di trattamento termico.
Riscaldato da 8 unità di lampade alogene da 1 kW, l'OTF-1200X-RTP-4 vanta una velocità di riscaldamento massima di 50°C/secondo. Nel forno è integrato un regolatore di temperatura di precisione a 50 segmenti con un'accuratezza di +/-1°C, che consente un controllo preciso del riscaldamento, della dimora e del raffreddamento nelle varie fasi del processo.
Forno RTP compatto ad atmosfera controllata 1100C OTF-1200X-4-RTP Caratteristiche tecniche
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Caratteristiche
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- L'involucro in acciaio a doppio strato con raffreddamento ad aria mantiene la temperatura superficiale del forno inferiore a 60°C.
- Isolamento in fibra di allumina di elevata purezza per il massimo risparmio energetico.
- Coperchio diviso con protezione interbloccata, che interrompe l'alimentazione se il coperchio si apre durante il processo di riscaldamento del forno.
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Temperatura di lavoro
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- Temperatura massima di riscaldamento:
1100℃ (< 10 min)
1000℃, (<20 min)
800℃, (<120 min)
- Temperatura di funzionamento continuo: ≤600℃
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Parametri di base
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- Elemento di riscaldamento: Termocoppia tipo K
- Portata dell'acqua di circolazione: 0,5 m3/h
- Intervallo di misurazione del flusso standard: 16-160 ml/min
- Vacuometro digitale: Da 10-4 a 1000 torr
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Potenza
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208-240 V CA, 12 KW, 50/60 Hz
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Controllo della temperatura
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- È incluso il regolatore di temperatura FA-YD808P-AG.
- Controllo proporzionale-integrale-derivativo (controllo PID) e funzione di autotuning
- 50 segmenti programmati con incrementi di rampa, raffreddamento e dimora
- Allarme integrato di sovratemperatura e di guasto della termocoppia
- Precisione di controllo della temperatura di +/- 1 ºC
- Porta di comunicazione PC DB9 predefinita
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Provetta al quarzo e portacampioni
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- Dimensioni del tubo al quarzo: 4,33" O.D x 4,05" I.D x 16,2" di lunghezza.
- È incluso un portacampioni AlN da 3" di diametro per la ricottura di campioni fino a 3" di diametro.
(L'AlN ha una conducibilità termica molto elevata che garantisce la migliore uniformità di temperatura nell'area del campione. Il portacampioni è rimovibile dalla flangia per utilizzare il forno RTP per altri scopi).
- Opzionale: substrato di grafite spesso 3'' O.D. (un'alternativa alla piastra AIN)
- Opzionale: Crogiolo di grafite (87 mm OD x 71 mm ID x 12 mm di altezza con coperchio) progettato per il portacampioni da 3".
(Il crogiolo può anche essere modificato in un forno RTE, CSS o HPCVD con un crogiolo di grafite rivestito di SiC.
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Dimensioni complessive
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- Flangia (quando è chiusa): 1350 L * 330 W * 590 H mm
- Flangia (aperta): 1350 L * 520 W * 740 H mm
- Dimensioni del forno: φ180*190 mm
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Peso netto
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70 kg
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Garanzia
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- Garanzia limitata di un anno con assistenza a vita.
- ATTENZIONE: Eventuali danni causati dall'uso di gas corrosivi e acidi non sono coperti dalla garanzia limitata di un anno SAM.
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Certificato
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- Certificato CE
- La certificazione NRTL o CSA è disponibile a pagamento.
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Forno RTP compatto ad atmosfera controllata 1100C OTF-1200X-4-RTP Applicazioni
- Produzione di semiconduttori: Utilizzato per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore come wafer di silicio, MEMS (sistemi microelettromeccanici) e celle fotovoltaiche. I forni verticali sono utilizzati per processi quali ossidazione, diffusione, LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) e ricottura.
- Deposizione di film sottili: Utilizzati per la deposizione di film sottili su substrati con tecniche quali CVD (Chemical Vapor Deposition), PVD (Physical Vapor Deposition) e ALD (Atomic Layer Deposition). I forni verticali forniscono un ambiente controllato per un controllo preciso dello spessore e della composizione del film.
- Produzione di celle solari: Applicata alla produzione di celle solari e moduli fotovoltaici. I forni verticali sono utilizzati per processi quali la diffusione, la deposizione del rivestimento antiriflesso e la metallizzazione per migliorare l'efficienza e le prestazioni delle celle solari.
Forno RTP compatto ad atmosfera controllata 1100C OTF-1200X-4-RTP Confezione
Il nostro forno RTP compatto ad atmosfera controllata 1100C OTF-1200X-4-RTP viene trattato con cura durante lo stoccaggio e il trasporto per preservare la qualità del prodotto nelle sue condizioni originali.
