Forno verticale 1100C KSL-1100X-L-VT Descrizione
Ilforno verticale 1100C è un forno verticale a tenuta di vuoto con una camera a tubi di quarzo di Ø200ר190×H425 mm, completa di flange e valvole in acciaio inox. Questo forno è dotato di una turbopompa Torr che consente di raggiungere un livello di vuoto di 10^-5 Torr. Progettato per la calcinazione o la ricottura di wafer di semiconduttori (fino a 8 pollici di diametro), funziona sotto vuoto o in diverse atmosfere gassose, raggiungendo temperature fino a 1100°C.
Forno verticale 1100C KSL-1100X-L-VT Caratteristiche tecniche
Caratteristiche
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- Isolamento in fibra di allumina di elevata purezza che circonda la camera
- Tre lati del forno sono riscaldati, con una velocità di riscaldamento rapida e un campo di temperatura uniforme.
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Parametri di base
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- Temperatura massima di riscaldamento: 1100℃ (< 1 ora)
- Temperatura di riscaldamento continuo: 1000°C
- Velocità di riscaldamento consigliata: 10°C /min
- Elemento riscaldante: Filo di resistenza Ni-Cr-Al
- Termocoppia: Tipo K
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Potenza
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220V AC, 7,5 KW, 50Hz
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Controllo della temperatura
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- È incluso un regolatore di temperatura digitale certificato NRTL
- Controllo proporzionale-integrale-derivativo (controllo PID) e funzione di autotune
- 50 segmenti programmati con fasi di rampa, raffreddamento e dimora
- Allarme integrato di sovratemperatura e di guasto della termocoppia
- Precisione di controllo della temperatura di +/- 1 ºC
- Porta di comunicazione PC DB9 predefinita inclusa per il collegamento al PC.
- Il termoregolatore Eurotherm è disponibile a un costo aggiuntivo con una precisione di +/-0,1°C.
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Dimensioni complessive
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980 mm L * 730 mm W * 880 mm H
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Peso netto
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125 kg
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Garanzia
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- Garanzia limitata di un anno con assistenza a vita.
- ATTENZIONE: eventuali danni causati dall'uso di gas corrosivi e acidi non sono coperti dalla garanzia limitata di un anno SAM.
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Certificato
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- Certificazione CE
- La certificazione NRTL o CSA è disponibile a un costo aggiuntivo.
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Forno verticale 1100C KSL-1100X-L-VT Applicazioni
- Produzione di semiconduttori: Utilizzato per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore come wafer di silicio, MEMS (Sistemi Micro-Elettro-Meccanici) e celle fotovoltaiche. I forni verticali vengono utilizzati per processi quali ossidazione, diffusione, LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) e ricottura.
- Deposizione di film sottili: Utilizzati per la deposizione di film sottili su substrati con tecniche quali CVD (Chemical Vapor Deposition), PVD (Physical Vapor Deposition) e ALD (Atomic Layer Deposition). I forni verticali forniscono un ambiente controllato per un controllo preciso dello spessore e della composizione del film.
- Produzione di celle solari: Si applica alla produzione di celle solari e moduli fotovoltaici. I forni verticali sono utilizzati per processi quali la diffusione, la deposizione del rivestimento antiriflesso e la metallizzazione per migliorare l'efficienza e le prestazioni delle celle solari.
Forno verticale 1100C KSL-1100X-L-VT Imballaggio
Il nostro forno verticale 1100C KSL-1100X-L-VT viene trattato con cura durante lo stoccaggio e il trasporto per preservare la qualità del prodotto nelle sue condizioni originali.