CY2536 Substrati a cristallo singolo di silicio-germanio (Si-Ge)

Catalogo no.	CY2536
Dimensioni	4" di diametro x 0,5 mm
Materiale	Si-Ge（2 wt% Ge）
Orientamento	<100> ±0.5°
Metodo di crescita	Processo di cristallizzazione

Isubstrati a cristallo singolo di silicio-germanio (Si-Ge) sono stati ampiamente utilizzati grazie alle loro eccellenti proprietà. Stanford Advanced Materials (SAM) vanta un'esperienza di oltre due decenni nella produzione e vendita di substrati a cristallo singolo di silicio-germanio (Si-Ge).

Correlato: Substrato di cristallo LiAlO2, Substrato di cristallo LAST, Substrato di cristallo LiF, Substrato di cristallo NdGaO3.

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CY2536 Silicon-Germanium (Si-Ge) Single Crystal Substrates

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Conduttività	Tipo P/tipo n
Resistività	7-8 ohm-cm
Lucidatura	Lucidato su un lato
Rugosità superficiale	< 5A
Imballaggio	Imballaggio sottovuoto indipendente per ogni pezzo

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Resistività	7-8 ohm-cm
Lucidatura	Lucidato su un lato
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CY2536 Substrati a cristallo singolo di silicio-germanio (Si-Ge)

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