Descrizione del target di sputtering in ferrite di cobalto
Iltarget di sputtering in ferrite di cobalto è composto da cobalto, ferro e ossido con la formula chimica di CoFe2O4. I target di sputtering in ferrite di cobalto di elevata purezza svolgono un ruolo fondamentale nei processi di deposizione per garantire un film depositato di alta qualità. Stanford Advanced Materials (SAM) è specializzata nella produzione di target sputtering con purezza fino al 99,9995%, utilizzando processi di assicurazione della qualità per garantire l'affidabilità del prodotto.
Specifiche del target di sputtering in ferrite di cobalto
Tipo di materiale |
Ferrite di cobalto |
Simbolo |
CoFe2O4 |
Colore/Aspetto |
Solido da grigio a nero |
PH |
N/D |
Densità |
N/D |
Tipo di legame |
Elastomero, indio |
Dimensioni disponibili |
Dia.: 1.0″, 2.0″, 3.0″, 4.0″, 5.0″, 6.0″ Spessore: 0,125″, 0,250″. |
Sono disponibili anche altre dimensioni. Si prega di contattarci per i target di sputtering personalizzati.
Servizi di incollaggio di target sputtering in ferrite di cobalto
Per i target di sputtering in ferrite di cobalto sono disponibili servizi di incollaggio di target in indio e in elastomero. Stanford Advanced Materials (SAM) si dedica alla lavorazione di piastre di supporto standard e collabora con la Taiwan Bonding Company per fornire servizi di incollaggio. Per domande sui materiali, i metodi e i servizi di incollaggio dei target, fare clic qui.
Imballaggio del target di sputtering in ferrite di cobalto
I nostri target di cobalto ferrite sputtering sono trattati con cura per evitare danni durante lo stoccaggio e il trasporto e per preservare la qualità dei nostri prodotti nelle loro condizioni originali.
Specificazione
Tipo di materiale |
Ferrite di cobalto |
Simbolo |
CoFe2O4 |
Colore/Aspetto |
Solido da grigio a nero |
PH |
N/D |
Densità |
N/D |
Tipo di legame |
Elastomero, indio |
Dimensioni disponibili |
Dia.: 1.0″, 2.0″, 3.0″, 4.0″, 5.0″, 6.0″ Spessore: 0,125″, 0,250″. |
Sono disponibili anche altre dimensioni. Si prega di contattarci per obiettivi di sputtering personalizzati.