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| Catalogo no. | CY3453 |
| Materiale del substrato | <110>, YSZ, 10x10x0,5 mm |
| Finitura superficiale | Un lato lucidato |
| Orientamento | <110> |
| Composizione del film sottile epitassiale | CeO2 |
| Spessore del film epitassiale | 40 nm ± 10 nm |
Ilsubstrato YSZ rivestito di CeO2 può essere utilizzato come substrato nel campo delle nanotecnologie, della microscopia elettronica a scansione (SEM) e della microscopia a forza atomica (AFM). Stanford Advanced Materials (SAM) ha una ricca esperienza nella produzione e fornitura di prodotti ottici di alta qualità.
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