Descrizione dei materiali di evaporazione a base di ossido di zinco e allumina
Imateriali per evaporazione a base di ossido di zinco e allumina (ZnO/Al2O3) offrono una combinazione sinergica delle proprietà desiderabili dell'ossido di zinco (ZnO) e dell'allumina (Al2O3). Questo materiale ibrido offre una maggiore stabilità termica, resistenza meccanica e resistenza chimica rispetto ai singoli componenti, rendendolo ideale per le applicazioni di deposizione di film sottili più complesse.
L'incorporazione dell'allumina nelle matrici di ossido di zinco migliora la stabilità termica, consentendo al materiale di resistere alle alte temperature durante i processi di deposizione senza degradarsi. Questa maggiore stabilità termica rende i materiali di evaporazione ZnO/Al2O3 adatti all'uso in tecniche di deposizione sotto vuoto ad alta temperatura, come l'evaporazione termica e l'evaporazione a fascio di elettroni.
Inoltre, l'aggiunta di allumina aumenta la resistenza meccanica del materiale, con conseguente miglioramento della durata e della resistenza alle sollecitazioni meccaniche durante la fabbricazione del film sottile e il successivo funzionamento del dispositivo. Ciò rende i materiali di evaporazione ZnO/Al2O3 particolarmente adatti alle applicazioni che richiedono film sottili robusti, come rivestimenti ottici, strati protettivi e rivestimenti resistenti all'usura.
Inoltre, i materiali di evaporazione ZnO/Al2O3 presentano un'eccellente resistenza chimica, garantendo la compatibilità con un'ampia gamma di ambienti di deposizione e materiali di substrato. Questa stabilità chimica contribuisce all'affidabilità e alla longevità dei rivestimenti a film sottile depositati con i materiali per evaporazione ZnO/Al2O3.
Specifiche dei materiali per evaporazione di ossido di zinco e allumina
Proprietà |
Valore |
Tipo di materiale |
Ossido di zinco con allumina |
Simbolo |
ZnO/Al2O3 |
Aspetto/Colore |
Bianco |
Punto di fusione |
Circa 2.030°C (3.686°F) |
Densità |
3,8 g/cm³ |
Purezza |
99.9% |
Forma |
Polvere/Granulo/Personalizzato |
Ossido di zinco con materiali per evaporazione di allumina Applicazioni
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Rivestimenti ottici: I film sottili di ZnO/Al2O3 sono ampiamente utilizzati nell'industria ottica per creare rivestimenti antiriflesso, filtri ottici e specchi ad alte prestazioni, migliorando le proprietà ottiche di vari componenti ottici.
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Elettronica: Questi materiali sono impiegati nell'industria elettronica per la produzione di transistor a film sottile (TFT), componenti essenziali dei display a schermo piatto come LCD e OLED. La loro eccellente conducibilità elettrica e trasparenza li rende ideali per queste applicazioni.
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Fotovoltaico: i film sottili di ZnO/Al2O3 sono fondamentali nella produzione di celle solari. Servono come strati conduttori trasparenti che facilitano l'assorbimento della luce e il trasporto degli elettroni, migliorando l'efficienza delle celle solari.
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Sensori: Nei sensori di gas e nei sensori chimici, i rivestimenti in ZnO/Al2O3 migliorano la sensibilità e la selettività, rendendoli preziosi nelle applicazioni che richiedono un rilevamento preciso e reattivo.
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Dispositivi optoelettronici: Questi materiali sono utilizzati nella produzione di dispositivi optoelettronici come LED, diodi laser e fotorivelatori, dove le loro proprietà ottiche ed elettriche sono estremamente vantaggiose.
Personalizzazione dei materiali di ossido di zinco con evaporazione di allumina
Alla Stanford Advanced Materials siamo consapevoli che i requisiti specifici sono fondamentali per molte applicazioni. Offriamo opzioni di personalizzazione per i materiali di evaporazione ZnO/Al2O3, tra cui forme, dimensioni e livelli di purezza personalizzati per soddisfare le vostre esatte esigenze.
Imballaggio dei materiali per evaporazione in ossido di zinco e allumina
I nostri materiali di evaporazione ZnO/Al2O3 sono imballati con cura per garantirne la qualità e l'integrità durante lo stoccaggio e il trasporto. Prestiamo la massima attenzione per evitare qualsiasi danno che possa verificarsi durante la manipolazione e la consegna.