Descrizione del grafene monostrato CVD
Ilgrafene monostrato CVD su substrato di Cu/Rame si riferisce a un metodo specifico per sintetizzare il grafene, un singolo strato di atomi di carbonio disposti in un reticolo esagonale, su una superficie di rame utilizzando tecniche di deposizione da vapore chimico.
Il grafene monostrato si riferisce a un singolo strato di atomi di carbonio disposti in una struttura reticolare a nido d'ape. Questa struttura monostrato è molto ricercata per le sue proprietà elettriche, termiche e meccaniche uniche, che differiscono significativamente dalla grafite sfusa o da altre forme di carbonio.
Le lamine o i film sottili di rame (Cu) sono comunemente utilizzati come substrato per la crescita del grafene tramite CVD. Il rame facilita la decomposizione catalitica dei gas contenenti carbonio e funge da modello per la formazione del grafene. Dopo la sintesi, lo strato di grafene può essere trasferito dal substrato di rame ad altri materiali per varie applicazioni.
Specifiche del grafene monostrato CVD
Metodo di crescita
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CVD (deposizione chimica da vapore)
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Aspetto
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Trasparente
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Trasparenza
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>97%
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Copertura
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>95%
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Spessore (teorico)
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0,345 nm
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Spessore AFM
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<1 nm
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Mobilità degli elettroni su SiO2/Si
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≈1500 cm2/V-s
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Resistenza del foglio su SiO2/Si
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350±40 Ohm/mq (1cm x1cm)
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Dimensione dei grani
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Fino a 20 μm
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Spessore della lamina di Cu
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18 μm
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Ruvidità
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~80 nm
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Applicazioni del grafene monostrato CVD
- Elettronica: Come elettrodi conduttivi trasparenti nei display e nelle celle solari.
- Sensori: Grazie alla sua elevata superficie e sensibilità.
- Materiali compositi: Per migliorare la resistenza meccanica e la conduttività.
- Ricerca: Per studiare le proprietà fondamentali del grafene.
Imballaggio del grafene monostrato CVD
Ilgrafene monostrato CVD è trattato con cura durante lo stoccaggio e il trasporto per preservare la qualità del nostro prodotto nelle sue condizioni originali.