GR5854 Grafene monostrato CVD su substrato di Cu/Rame

Catalogo no.	GR5854
Dimensioni	5cm*5cm
Materiale	Cu
MSDS / SDS	Scarica MSDS / SDS

Ilgrafene monostrato su substrato di Cu/Rame si riferisce a un metodo specifico per sintetizzare il grafene, un singolo strato di atomi di carbonio disposti in un reticolo esagonale, su una superficie di rame utilizzando tecniche di deposizione da vapore chimico. Stanford Advanced Materials (SAM) è in grado di fornire grafene monostrato di elevata purezza e a prezzi competitivi.

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CVD Monolayer Graphene on Cu/Copper Substrate

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Metodo di crescita	CVD (deposizione chimica da vapore)
Aspetto	Trasparente
Trasparenza	>97%
Copertura	>95%
Spessore (teorico)	0,345 nm
Spessore AFM	<1 nm
Mobilità degli elettroni su SiO2/Si	≈1500 cm2/V-s
Resistenza del foglio su SiO2/Si	350±40 Ohm/mq (1cm x1cm)
Dimensione dei grani	Fino a 20 μm
Spessore della lamina di Cu	18 μm
Ruvidità	~80 nm

Metodo di crescita	CVD (deposizione chimica da vapore)
Aspetto	Trasparente
Trasparenza	>97%
Copertura	>95%
Spessore (teorico)	0,345 nm
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Mobilità degli elettroni su SiO2/Si	≈1500 cm2/V-s
Resistenza del foglio su SiO2/Si	350±40 Ohm/mq (1cm x1cm)
Dimensione dei grani	Fino a 20 μm
Spessore della lamina di Cu	18 μm
Ruvidità	~80 nm

GR5854 Grafene monostrato CVD su substrato di Cu/Rame

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